Nanosized lead Inclusions in Silicon produced by Ion Implantation

Publikation: Bidrag til tidsskriftTidsskriftartikelForskningfagfællebedømt

OriginalsprogEngelsk
TidsskriftNucl. Instrum. Meth.B.
Udgave nummer148
Sider (fra-til)1034-1038
StatusUdgivet - 1999

ID: 187617